陶瓷真空电镀设备
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详细信息

PVD离子镀膜设备替代传统氮化钛（TiN）离子镀技术的新一代耐磨蚀镀层技术装备。它采用低压离孪**?辅助加强的非平衡磁控溅射技术，能镀制氮化铝钛（TiAlN），碳氮化钛（TiCN），氮化铬（CrN），氮化钛（TiN），氮化锆（ZrN）及类金刚石等超硬镀层。通过采用新的复合镀层原理和精确的工件转动结构，能保证同炉镀制出上述膜系的3种成分的多层（纳米级）复合镀层。研制成功的新的工模具镀层技术，可按工模具实际使用条件进行综合膜系设计。多成分复合镀层比单一成份镀层具有更好的耐磨耐蚀性能，其寿命和加工效率均可比单一镀层高。

　　PVD离子镀膜机技术性能：
　　镀膜室：壳体为不锈钢，水冷。
　　内腔尺寸：Φ750×H 650 mm.
　　真空系统：分子泵F—250，1500 L／Sec
　　机械泵2X—30，30 L／Sec
　　极限真空度：≤7×10-4Pa
　　恢复真空：大气——7×10-3Pa≤30min
　　工件转动：卧式，公自转，公转4～10转／min
　　工件架尺寸：Φ500×350 mm
　　可装工件数量：70×14×10 mm工件50件以上。
　　非平衡磁控靶：2个
　　靶电源：2个，0～600V／15A.
　　低压离孪**?：1个，0～60V／180A.
　　低压离孪**?电源：1个
　　偏压电源：1个，0～600V／20A.
　　等离子清洗：由低压离孪**?进行清洗。
　　工件加热：由低压离孪**?加热，或附加加热器进行加热。
　　由热电偶测量温度。
　　可镀膜的成份：TiAlN，TiCN，CrN，ZrN，TiN，类金刚石等。
　　充气系统：由3路质量流量控制器（MFC）分别对1路Ar，1路N2，1路C2H2进行控制。
　　加工控制：手动。［另可根据需要采用计算机和PLC作半自动或自动控制。］
　　供电电源：3N-220／380V±10％，50HZ，保护地线，耗电≈30KW.
　　冷却水：压力≥2Kg／cm2，耗水量约5T／hr.